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管式扩散氧化退火炉

设备名称 Equipment name

管式扩散氧化退火炉  DOA Equipment

设备型号 Equipment Model

DOA-320

设备用途 Equipment Application

主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结。
The equipment is mainly used for doping and form PN junctions of silicon wafers in the manufacturing process of crystalline silicon solar cells.

工艺流程 Process Flow

石英舟及硅片准备→插片→上料→选择工艺运行→进舟→抽真空→升温稳定→通氧→通源→推进→恒温→出舟→下舟冷却→测试→卸片    
Prepare quartz boat & wafers→ Insertwafers→Loading wafers→ Choose recipe → Boat loading→ Vacuumize→ Temperature rising→Oxygen inlet→pocl3 inlet→ Push in→Diffusion treatment→ Boat unloading→ Cooling→ Testing→ Wafer unloading      

技术特点  Features 

1. MES控制功能。
MES control function.

2. 低压扩散功能。
Low pressure diffusion.

3. 防撞舟技术。
Boat anti-collision function.

4. 源压稳定技术。
Pressure stabilization of the gas source.

5. 作适应性变更,可兼容硼扩散工艺技术。
Available for adaptation changes,can be compatible with Boron diffusion technology.

6. 高方阻技术解决方案。
High sheet resistance technical solution.

7. 自动装卸舟。
Automatic boat loading/unloading.

8. 具备侧出舟功能。
With BBI function.

9. 智能化控制。
Intelligent control.

10. 匹配S.C智能化生产管理系统。
Match with S.C smart factory solution.

 

设备参数  Parameters