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管式等离子体淀积炉

设备名称 Equipment Name
管式等离子体淀积炉  Horizontal PECVD

设备型号 Equipment Model
PD-450L

设备用途 Equipment Application
主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长,也可用于在电池片的背面沉积钝化膜。
Mainly used for generateshighest quality anti-refiective coatings in the production of crystal siliconsolar cells, and for deposition of passivation on the backside of wafer.

工艺流程 ProcessFlow
石墨舟及硅片准备→管内充氮气→进舟→抽真空、压力测试→氨气预清理和检查→管路抽真空、测漏、恒温→预镀膜→镀膜→抽真空、压力测试→清管路、充氮气→退舟
Graphite boat & wafers ready→Nitrogen in thetube→Graphite boat load in→Vacuum, pressure test →Ammonia pre-clean and check→Vacuum the tube,leak-checking , constant temperature→Pre-coating →Coating→Vacuum,pressure test→Tube cleaning and Nitrogen inlet→Graphite boatunload.
 

技术特点  Features

· MES控制功能。
  MES controlfunction.

· 中央计算机集中控制。
  CCC Control.

· 双炉门结构设计。
  Double furnace doordesign.

· 双水冷凝冷却密封技术。
  Double cooling waterflanges sealing technology.

· 悬浮承载舟技术。
  Levitation ofgraphit boat technology.

· 快速镀膜技术。
  Fast coatingtechnology.

· 兼容氮氧化硅PERC技术。
  Compatible with SiONPERC technology.

· 5管,4000片/小时以上产能。
  5 tubesthroughput>4000ps/h.

· 具备一定的氧化铝退火功能。
With Al2O3annealing function.
 

设备参数  Parameters