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管式低压扩散氧化退火炉

设备简介

设备名称:管式低压扩散氧化退火炉

设备型号:DOA-300/DOA-320

设备用途:主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结。

工艺流程:石英舟及硅片准备→插片→上料→选择工艺运行→进舟→抽真空→升温稳定→通氧→通源→推进→恒温→出舟→下舟冷却→测试→卸片          

 

技术特点         

· MES控制功能。

· 低压扩散功能。

· 防撞舟技术。

· 源压稳定技术。

· 作适应性变更,可兼容硼扩散工艺技术。

· 高方阻技术解决方案。

· 自动装卸舟。

· 具备侧出舟功能。

· 智能化控制。

· 匹配S.C智能化生产管理系统。

·高方阻:140Ω

·高均匀性:≤±4%,±2%,±2%(片内,片间,批间)

·大产能:1000片/舟(DOA-300),

1200片/舟(DOA-320),2.38mm间距

 

设备参数 

管式低压扩散氧化退火炉(参数中文版).JPG