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管式扩散氧化退火炉


设备名称 Equipment name
管式扩散氧化退火炉  DOA Equipment

设备型号 Equipment Model
DOA-320

设备用途 Equipment Application
主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结。
The equipment is mainly used for doping ofsilicon wafers in the manufacturing process of crystalline silicon solar celland form PN junctions.

工艺流程 Process Flow
石英舟及硅片准备→插片→上料→选择工艺运行→进舟→抽真空→升温稳定→通氧→通源→推进→恒温→出舟→下舟冷却→测试→卸片    
Prepare quartz boat & wafers→ Insertwafers→Loading wafers→ Choose recipe → Boat loading→ Vacuumize→ Temperature rising→Oxygen→pocl3 inlet→ Push in→Diffusion treatment→ Boat unloading→ Cooling→ Testing→ Wafer unloading      

技术特点  Features 

· MES控制功能。
  MES control function.

· 低压扩散功能。
  Low pressure diffusion.

· 防撞舟技术。
  Boat anti-collision function.

· 源压稳定技术。
  Pressure stabilization of the gas source.

· 作适应性变更,可兼容硼扩散工艺技术。
  Available for adaptation changes,can be compatible with Borondiffusion technology.

· 高方阻技术解决方案。
  High sheet resistance technical solution.

· 自动装卸舟。
  Automatic boat loading/unloading.

· 具备侧出舟功能。
  With BBI function.

· 智能化控制。
  Intelligent control.

· 匹配S.C智能化生产管理系统。
  Match with S.C smart factory solution.

 

设备参数  Parameters