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槽式碱刻蚀抛光背面制绒一体机

设备简介     

设备名称:槽式碱刻蚀抛光/背面制绒一体机

设备型号:SC-CSZ6500E-12F

设备用途:用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理,以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。

 

技术特点

· 产能: 400pcs/批,6500pcs/小时。

· 兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺。

· 支持多种添加剂及混合添加剂技术。

· 支持最薄120um硅片。

· 洁净区域干燥,自洁净系统。

· 快速换液,在线换液。

· 支持MES、RFID及选配在线称重功能。

 

设备参数


槽式碱刻蚀抛光背面制绒一体机(参数).JPG

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